반도체 등 초정밀 산업용 케미컬 소재 전문업체로,  반도체 공정 재료 부문에서 특수 Surfactant와 polymer를 활용하여 ArF 공정 시 패턴 쓰러짐을 방지하는 용액 개발에 성공하여 상용화하였습니다. EUV 공정용 패턴 쓰러짐 방지 용액과 현상액을 개발하였으며, 현상력 향상과 Profile 개선 효과가 있는 PHOTO Mask 현상액(Developer), Capacitor의 쓰러짐 방지와 세정력 향상을 위한 세정액을 주력으로 하고 있습니다.

높은 두께 및 고해상도가 가능한 다양한 KrF, i-Line Photoresist, BARC, SOC, CMP Slurry, Thinner류에 이르기까지 반도체 재료의 다변화와 신소재 제품 개발하고 있으며 주요 제품으로는 Photo 소재(YPP-T6K YHS-140), Wet Chemical(YND-B100 CUSOL), PR용 Rinse(LST-2000PC PLECT-230) 등이 있습니다.

유리기판주로 분류되는 기업이지만 실적이 계속 적자를 기록하고 있습니다. 가뜩이나 업황이 어려운 반도체 업종인데 실적까지 부진하다라는 것은 리스크가 상당히 크다고 볼 수 있습니다. 그리고 범용 메모리반도체 또한 공급을 타이트하게 가져가면서 스팟 가격을 올리고 있기 때문에 언제든지 반도체 가격이 하락으로 전환될 수 있는 리스크도 상존하고 있습니다. 시장에 부합하는 업종으로 종목 교체하는 것을 권유 드립니다.